Aktualisierte Lokalisierungsanforderungen für Mikrochips in Russland
Die Regierung Russlands hat die Anforderungen an die Lokalisierung der Mikrochip-Produktion neu festgelegt. Gegenüber der Entwurfsfassung vom Juli 2025 sind die Regeln bei der geforderten Punktezahl und bei den Fristen leicht entschärft worden. Wie „Kommersant“ berichtet, wurden die neuen Vorgaben als Teil von Änderungen zur Verordnung Nr. 719 veröffentlicht und werden stufenweise eingeführt – ab dem 1. Juli 2026 sowie ab dem 1. Januar 2027.
Neue Bewertungslogik: Anteile von Operationen, Komponenten und Software
Das Bewertungssystem berücksichtigt künftig unter anderem den Anteil der technologischen Produktionsschritte, die in Russland ausgeführt werden, den Anteil inländischer Komponenten sowie den Einsatz russischer Software und komplexer Funktionsblöcke.
Zwei Stufen statt drei: Vollzyklus vs. Produktion ohne Fotomasken und Monokristalle
Anders als zuvor vorgeschlagen, gibt es nicht mehr drei Konformitätsstufen, sondern zwei. Die erste Stufe ist für einen vollständigen Produktionszyklus vorgesehen, der auch die Nutzung von Fotomasken und Monokristallen umfasst. Die zweite Stufe gilt für eine Fertigung, bei der diese Arbeitsschritte nicht enthalten sind.
Punkteschwellen für 28 nm und feiner sowie Übergangsregel im Register
Für die anspruchsvollsten Mikrochips der zweiten Stufe, die mit einem Strukturprozess von 28 nm und feiner hergestellt werden, müssen mindestens 21 Punkte im Jahr 2027 erreicht werden; bis 2038 steigt die Anforderung auf 36 Punkte. Gleichzeitig bleiben bereits in das Register russischer radioelektronischer Produkte eingetragene Datensätze zu Mikrochips bis zum Ablauf ihrer jeweiligen Gültigkeitsdauer wirksam.
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