Russland plant 2026 die Entwicklung eines 90-nm-Lithografen

Das kann bis zu 4 Jahre dauern

In Russland soll 2026 die Entwicklung eines Lithografiesystems anlaufen, mit dem Mikroschaltkreise nach 90-nm-Strukturbreite gefertigt werden können. Wie CNews berichtet, sagte der stellvertretende Industrieminister Wassili Schpak dies am 20. März an der XXI. branchenspezifischen wissenschaftlich-technischen Konferenz der Radioelektronik-Industrie. Wer das Projekt umsetzt, soll über eine Ausschreibung bestimmt werden.

Wer könnte den Zuschlag erhalten?

Als möglicher Bewerber wird unter anderem das Nanotechnologiezentrum Selenograd (ZNTC) genannt. Das Zentrum arbeitet bereits gemeinsam mit dem belarussischen „Planar“ an Lithografen für 350 nm und 130 nm. Beim ZNTC heisst es jedoch, man habe noch nicht entschieden, ob man beim neuen Wettbewerb überhaupt mitmache, da man zunächst die Entwicklung des 130-nm-Steppers bis November 2026 abschliessen wolle.

Zeitplan, Kosten und Hürden beim 90-nm-Lithografen

Fachleute gehen davon aus, dass ein 90-nm-Lithograf auf Basis einer bereits vorhandenen Plattform 2-4 Jahre Entwicklungszeit benötigen kann und Kosten in der Grössenordnung von hunderten Millionen US-Dollar verursacht. Die Hauptschwierigkeiten betreffen demnach nicht nur die Maschine selbst, sondern ebenso die Verfügbarkeit von Optik, Fotomasken, Materialien sowie das erforderliche Engineering-Know-how.

Aktueller Stand der Lithografie-Entwicklung in Russland

Derzeit ist in Russland die Entwicklung eines 350-nm-Lithografen abgeschlossen; parallel läuft die Arbeit an einer Anlage, die die Chipfertigung im 130-nm-Prozess ermöglicht. Der Preis für diese Installation wird auf rund 6 Mio. US-Dollar geschätzt, bei einer Leistung von 100–140 Wafern pro Stunde.

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